<?xml version="1.0" encoding="UTF-8"?>
<!DOCTYPE article PUBLIC "-//NLM//DTD JATS (Z39.96) Journal Publishing DTD v1.3 20210610//EN" "JATS-journalpublishing1-3.dtd">
<article article-type="research-article" dtd-version="1.3" xmlns:mml="http://www.w3.org/1998/Math/MathML" xmlns:xlink="http://www.w3.org/1999/xlink" xmlns:xsi="http://www.w3.org/2001/XMLSchema-instance" xml:lang="ru"><front><journal-meta><journal-id journal-id-type="publisher-id">alternative</journal-id><journal-title-group><journal-title xml:lang="ru">Альтернативная энергетика и экология (ISJAEE)</journal-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>Alternative Energy and Ecology (ISJAEE)</trans-title></trans-title-group></journal-title-group><issn pub-type="ppub">1608-8298</issn><publisher><publisher-name>Международный издательский дом научной периодики "Спейс</publisher-name></publisher></journal-meta><article-meta><article-id pub-id-type="doi">10.15518/isjaee.2024.11.059-068</article-id><article-id custom-type="elpub" pub-id-type="custom">alternative-2567</article-id><article-categories><subj-group subj-group-type="heading"><subject>Research Article</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="ru"><subject>I. ВОЗОБНОВЛЯЕМАЯ ЭНЕРГЕТИКА. 1. Солнечная энергетика. 1-3-0-0 Солнечные электростанции. 1-3-1-0 Кремниевые солнечные электростанции</subject></subj-group><subj-group subj-group-type="section-heading" xml:lang="en"><subject>I. RENEWABLE ENERGY. 1. Solar energy. 1-3-0-0 Solar-hydrogen energy. 1-3-1-0 Silicone solar thermal electric plants</subject></subj-group></article-categories><title-group><article-title>Оптические свойства тонких пленок а-Si1-xGex :H (x = 0-1) для электронных приборов</article-title><trans-title-group xml:lang="en"><trans-title>Optical properties of thin films a-Si1-xGex :H (x = 0-1) for electronic devices</trans-title></trans-title-group></title-group><contrib-group><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Наджафов</surname><given-names>Б. А.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Najafov</surname><given-names>B. A.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>Наджафов Бахтияр Агагулу оглы, лаборатория Радиационной Физики Полупроводников, доктор физ-мат. наук, главный научный сотрудник</p><p>Аз 1143, Азербайджан, г. Баку, ул. Б. Вагабзаде, 9</p></bio><bio xml:lang="en"><p>Najafov Bakhtiyar Aqakulu oqli, Laboratory of Radiation Physics of Semiconductors, Doctor ofPhysical Sciences, Chief Researcher</p><p>Az 1143, Azerbaijan, Baku, st. B. Vahabzade, 9</p></bio><email xlink:type="simple">bnajafov@inbox.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-1"/></contrib><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Насиров</surname><given-names>Шукур Н.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Nasirov</surname><given-names>Shukur N.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>Насиров Шукур Нариман оглы, канд. тех. наук, доц., зав кафедры «Технология производства энергии» при АГУНП</p><p>Аз 1010, Азербайджан, г. Баку, пр. Азадлыг, 16/21</p></bio><bio xml:lang="en"><p>Nasirov Shukur Nariman oqli, Ph.D. those. Sciences, Associate Professor,Head of the Department of «Energy Production Technology» at ASOIU</p><p>Az 1010, Azerbaijan, Baku, Azadlig Ave., 16/21</p></bio><email xlink:type="simple">sh.nasirov62@inbox.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-2"/></contrib><contrib contrib-type="author" corresp="yes"><name-alternatives><name name-style="eastern" xml:lang="ru"><surname>Насиров</surname><given-names>Шамси Н.</given-names></name><name name-style="western" xml:lang="en"><surname>Nasirov</surname><given-names>Shamsi N.</given-names></name></name-alternatives><bio xml:lang="ru"><p>Насиров Шамси Нариман оглы, канд. тех. наук, доц. кафедры автоматики, телекоммуникаций и энергетики при БИУ</p><p>Аз 0102, Азербайджан, г. Хырдалан, ул. Гасана Алиева, 120</p></bio><bio xml:lang="en"><p>Nasirov Shamsi Nariman oqli, Ph.D. those. Sciences, Associate Professor, Department of Automation, Telecommunications and Energy at BEU</p><p>Az 0102, Azerbaijan, Khirdalan, st. Hasan Aliyev, 120</p></bio><email xlink:type="simple">shamsi_68@mail.ru</email><xref ref-type="aff" rid="aff-3"/></contrib></contrib-group><aff-alternatives id="aff-1"><aff xml:lang="ru"><institution>Институт Радиационных Проблем Министерства Науки и Образования</institution><country>Азербайджан</country></aff><aff xml:lang="en"><institution>Institute of Radiation Problems of the Ministry of Science and Education</institution><country>Azerbaijan</country></aff></aff-alternatives><aff-alternatives id="aff-2"><aff xml:lang="ru"><institution>Азербайджанский Государственный Университет Нефти и Промышленности</institution><country>Азербайджан</country></aff><aff xml:lang="en"><institution>Azerbaijan State Oil and Industrial University (ASOIU)</institution><country>Azerbaijan</country></aff></aff-alternatives><aff-alternatives id="aff-3"><aff xml:lang="ru"><institution>Бакинский Инженерный Университет</institution><country>Азербайджан</country></aff><aff xml:lang="en"><institution>Baku Engineering University</institution><country>Azerbaijan</country></aff></aff-alternatives><pub-date pub-type="collection"><year>2024</year></pub-date><pub-date pub-type="epub"><day>13</day><month>03</month><year>2025</year></pub-date><volume>0</volume><issue>11</issue><fpage>59</fpage><lpage>68</lpage><permissions><copyright-statement>Copyright &amp;#x00A9; Международный издательский дом научной периодики "Спейс, 2025</copyright-statement><copyright-year>2025</copyright-year><copyright-holder xml:lang="ru">Международный издательский дом научной периодики "Спейс</copyright-holder><copyright-holder xml:lang="en">Международный издательский дом научной периодики "Спейс</copyright-holder><license xlink:href="https://www.isjaee.com/jour/about/submissions#copyrightNotice" xlink:type="simple"><license-p>https://www.isjaee.com/jour/about/submissions#copyrightNotice</license-p></license></permissions><self-uri xlink:href="https://www.isjaee.com/jour/article/view/2567">https://www.isjaee.com/jour/article/view/2567</self-uri><abstract><p>Проанализированы возможности применения технологии плазмохимического осаждения пленок a-Si1 xGex:H (x= 0-1), нелегированных и легированных PH3 и B2H6, для использования их в p-i-nструктурах солнечных элементов. Рассмотрены оптические свойства, также определено количество водорода, содержащегося в данной пленке. Найдено, что свойства пленки сильно зависят от состава и уровня гидрогенизации. Количество атомов водорода в пленках варьировали путем изменения составов газовой смеси и измеряли ИК поглощение для пленок a-Si:H и a-Ge:H. На основе пленок a-Si:H и a-Si088Ge12:H изготовлены трехслойные солнечные элементы с площадью элемента 1,3 см2 и эффективностью (£) 9,5%.</p></abstract><trans-abstract xml:lang="en"><p>Possibilities of plasma chemical deposition of a-Si1-xGex:H (x= 0-1) films undoped and doped with PH3 or B2H6 have been analyzed from the viewpoint of their application in p-i-n structures of solar cell. The optical properties are considered, and the amount of hydrogen contained in those films is determined. The film properties are found to strongly depend on the film composition and the hydrogenation level. The number of hydrogen atoms in the films is varied by changing the gas mixture composition, and IR absorption in a-Si:H and a-Ge:H films is measured. The a-Si:H and a-Si Ge:H films were used to fabricate three-layer solar with an element area of 1,3 sm2 and an efficiency (£) of 9,5%.</p></trans-abstract><kwd-group xml:lang="ru"><kwd>тонкие пленки</kwd><kwd>аморфный кремний</kwd><kwd>солнечные элементы</kwd><kwd>эффективность</kwd><kwd>оптические свойства</kwd></kwd-group><kwd-group xml:lang="en"><kwd>thin film</kwd><kwd>amorphous silicon</kwd><kwd>solar cells</kwd><kwd>efficiency</kwd><kwd>optical properties</kwd></kwd-group></article-meta></front><back><ref-list><title>References</title><ref id="cit1"><label>1</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">В. П. Афанасьев, А. С. Гудовских, В. Н. Неведомский и др. Влияние термообработки на структуру и свойства пленок а-Si:H, полученных методом циклического осаждения // ФТП. – 2002. – Т. 36. – С. 238-243.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">V. P. Afanasyev, A. S. Gudovskikh, V. N. Nevedomsky, et al. Effect of heat treatment on the structure and properties of a-Si:H films obtained by cyclic deposition // FTP. – 2002. – Vol. 36. – Pp. 238-243.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit2"><label>2</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">О. А. Голикова, М. М. Казанин, В. Х. Кудоярова. Эффект Стаэблера-Вронского в зависимости от положения уровня Ферми и структуры нелегированного аморфного гидрированного кремния // ФТП. – 1998. – Т. 32. – С. 484-489.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">O. A. Golikova, M. M. Kazanin, V. Kh. StaeblerWronski effect depending on the position of the Fermi level and the structure of undoped amorphous hydrogenated silicon // FTP. – 1998. – Vol. 32. – Pp. 484-489.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit3"><label>3</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">М. М. Мездрагина, А. В. Абрамов, Г. М. Масина и др. Влияния отжига в атмосфере атомарного водорода на свойства пленок аморфного гидрированного кремния и параметры p-i-n структур на их основе // ФТП. – 1998. – Т. 32. – № 5. – С. 620-637.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">M. M. Mezdragina, A. V. Abramov, G. M. Masina, et al. Effects of Annealing in an Atomic Hydrogen Atmosphere on the Properties of Amorphous Hydrogenated Silicon Films and Parameters of p-i-n Structures Based on Them // FTP. – 1998. – Vol. 32. – No. 5. – Pp. 620-637.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit4"><label>4</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">О. А. Голикова, У. С. Бабаходжаев. Кристаллизация пленок аморфного гидрированного кремния, осажденных при различных условиях // ФТП. – 2002. – Т. 36. – С. 1259-1262.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">O. A. Golikova, U. S. Babakhodjaev. Crystallization of Amorphous Hydrogenated Silicon Films Deposited under Different Conditions // FTP. – 2002. – Vol. 36. – Pp. 1259-1262.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit5"><label>5</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">О. А. Голикова, А. Н. Кузнецов, В. Х. Кудоярова, М. М. Казанин. Особенности структуры пленок аморфного гидрированного кремния, осажденных методом разложения силана на постоянном токе в магнитном поле // ФТП. – 1997. – Т. 31. – С. 816-819.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">O. A. Golikova, A. N. Kuznetsov, V. Kh. Kudoyarova, M. M. Kazanin. Features of the structure of amorphous hydrogenated silicon films deposited by the method of silane decomposition under direct current in a magnetic field // FTP. – 1997. – Vol. 31. – Pp. 816-819.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit6"><label>6</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Физика гидрогенизированного аморфного кремния / Под редакцией Джоуна Пулоса Дж, Льюковски Дж. М.: Мир, 1988. – С. 447.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Physics of hydrogenated amorphous silicon / Edited by John Poulos J., Lewkowski J. M.: Mir, 1988. – P. 447.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit7"><label>7</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Б. А. Наджафов. Аморфные и микрокристаллические полупроводники // Сб. тр. Международной конф. СПБ: Изд-во Политехн. Ун-та, 2006.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">B. A. Nadzhafov. Amorphous and microcrystalline semiconductors // Coll. t. of the International Conf. SPb: Publishing house of the Polytechnic University, 2006.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit8"><label>8</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">H. Colder, R. Rizk, M. Morales, P. Marik, J. Vicens, J. VicKridge. Влияние температуры подложки на рост нанокристаллического карбида кремния при реактивном магнетронном распылении // J. Appl. Phys. – 2005, т. 98. – № 2. – С. 44-49.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">H. Colder, R. Rizk, M. Morales, P. Marik, J. Vicens, J. VicKridge. Effect of substrate temperature on the growth of nanocrystalline silicon carbide during reactive magnetron sputtering // J. Appl. Phys. – 2005, v. 98. – No. 2. – Pp. 44-49.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit9"><label>9</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">R. R. King, D. C. Zaw, K. M. Edmontson, C. M. Fetzer, G. S. Kinzey, H. Yoon, R. A. Sherif, N. H. Kazam. Метаморфные многопереходные солнечные элементы GaInP/GaInAs/Ge с эффективностью 40% // Appl. Phys. Lett. – 2007, v. 90. – № 18, рp. 231-239.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">R. R. King, D. C. Zaw, K. M. Edmontson, C. M. Fetzer, G. S. Kinzey, H. Yoon, R. A. Sherif, N. H. Kazam. Metamorphic GaInP/GaInAs/Ge Multijunction Solar Cells with 40% Efficiency // Appl. Phys. Lett. – 2007, v. 90. – No. 18, pp. 231-239.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit10"><label>10</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Аморфные полупроводники и приборы на их основе / Под ред. Й. Хамакавы. М.: Металургия, 1986, с. 374.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">Amorphous Semiconductors and Devices Based on Them / Ed. by Y. Hamakawa. Moscow: Metallurgy, 1986, p. 374.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit11"><label>11</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Б. А. Наджафов, Г. И. Исаков, В. Р. Фигаров. Оптические свойства гидрогенизированных аморфных пленок твердого раствора а-Si0,85Ge0,15:H // Прикладная физика. – 2004. – № 4. – С. 107-114.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">B. A. Nadzhafov, G. I. Isakov, V. R. Figarov. Optical properties of hydrogenated amorphous films of a-Si0,85Ge0,15:H solid solution // Applied Physics. – 2004. – No. 4. – Pp. 107-114.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit12"><label>12</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Б. А. Наджафов. Получения пленок аморфного гидрогенизированного карбида-кремния а-Si1-хGeх:H (х = 0-1) для фотоэлектрических преобразователей // Альтернативная энергетика и экология (ISJAEE), 2007. – № 11. – С. 177-179.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">B. A. Nadzhafov. Obtaining films of amorphous hydrogenated silicon carbide a-Si1-хGeх :H (x = 0-1) for photovoltaic converters // Alternative Energy and Ecology (ISJAEE), 2007. – No. 11. – Pp. 177-179.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit13"><label>13</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Б. А. Наджафов, Г. И. Исаков. Получение и легирование аморфных пленок на основе Si и Ge // Альтернативная энергетика и экология (ISJAEE). – 2005. – № 4(24). – С. 79-82.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">B. A. Nadzhafov, G. I. Isakov. Preparation and doping of amorphous films based on Si and Ge // Alternative energy and ecology (ISJAEE). – 2005. – № 4(24). – Pp. 79-82.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit14"><label>14</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">J. Tayes, Grigorovici Retal. Optical properties and electronic structure of amorphous germanium // J. Non-Cryst. Sol. – 1966, v. 15. – № 1. – Рp. 627-630.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">J. Tayes, Grigorovici Retal. Optical properties and electronic structure of amorphous germanium // J. Non-Cryst. Sol. – 1966, v. 15. – № 1. – Pp. 627-630.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit15"><label>15</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">M. N. Brodsky, M. Cardona, J. J. Cuomo. Infrared and Raman Spectra of the Silicon Hydrogen Bonds in Amorphous Silicon Propared by Glow discharge and sputtering. // phys. Rev. B. – 1977, v. 16. – № 8. – Рp. 3556-3581.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">M. N. Brodsky, M. Cardona, J. J. Cuomo. Infrared and Raman Spectra of the Silicon Hydrogen Bonds in Amorphous Silicon Produced by Glow discharge and sputtering. // phys. Rev. B. – 1977, v.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit16"><label>16</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Б. А. Наджафов, Г. И. Исаков. Оптические свойства аморфных пленок твердого раствора а-Si1-хGeх:H с различной концентрацией водорода // ЖПС. – 2005, т. 72. – № 3. – С. 371-376.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">– № 8. – Pp. 3556-3581. 16. B. A. Nadzhafov, G. I. Isakov. Optical properties of amorphous films of a-Si1-хGeх :H solid solution with different hydrogen concentrations // J. Physical Review. – 2005, Vol. 72. – No. 3. – Pp. 371-376.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit17"><label>17</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Н. Мотт, Э. Девис. Электронные процессы в некристаллических веществах. Под. ред. Б. Т. Коломийца. М.: Мир, 1982. – С. 662.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">N. Mott, E. Davis. Electronic processes in noncrystalline substances. Ed. by B. T. Kolomiets. Moscow: Mir, 1982. – P. 662.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit18"><label>18</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">Б. А. Наджафов. Электрические свойства аморфных пленок твердого раствора Ge0,90Si0, 10:Hx // ФТП. – 2000. – Т. 34. – № 11. – С. 1383-1385.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">B. A. Nadzhafov. Electrical properties of amorphous films of Ge0,90Si0,10:Hx solid solution // FTP. – 2000. – Vol. 34. – No. 11. – Pp. 1383-1385.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit19"><label>19</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">R. A. Rudder, J. W. Cook, G. Fucovsky. High photoconductivity in Dual Magnetron Sputterd and Germanium Alloy Films //Appl. Phys. Lett. – 1984, v. 45. – № 8. – Рp. 887-889.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">R. A. Rudder, J. W. Cook, G. Fucovsky. High photoconductivity in Dual Magnetron Sputtered and Germanium Alloy Films // Appl. Phys. Lett. – 1984, v. 45. – No. 8. – Rp. 887-889.</mixed-citation></citation-alternatives></ref><ref id="cit20"><label>20</label><citation-alternatives><mixed-citation xml:lang="ru">B. A. Najafov, V. R. Fiqarov. Hydrogen content evaluation in hydrogenated nanocrystalline silicon and its amorphous alloys with germanium and carbon // International Journal of Hydrogen Energy. – 2010, v. 35. – Рp. 4361-4367.</mixed-citation><mixed-citation xml:lang="en">B. A. Najafov, V. R. Fiqarov. Hydrogen content evaluation in hydrogenated nanocrystalline silicon and its amorphous alloys with germanium and carbon // International Journal of Hydrogen Energy. – 2010, v. 35. – Pp. 4361-4367.</mixed-citation></citation-alternatives></ref></ref-list><fn-group><fn fn-type="conflict"><p>The authors declare that there are no conflicts of interest present.</p></fn></fn-group></back></article>
